DSpace JSPUI
DSpace зберігає і дозволяє легкий і відкритий доступ до всіх видів цифрового контенту, включаючи текст, зображення, анімовані зображення, MPEG і набори даних
Дізнатися більше
Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/13522| Назва: | Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition |
| Автори: | Shevchenko, D. V. Volchuk (Scientific supervisor) N. Shashkina (Language consultant) |
| Ключові слова: | development of optimal technological parameters plasma coating deposition |
| Дата публікації: | 25-кві-2024 |
| Видавництво: | Придніпровська державна академія будівництва та архітектури |
| Бібліографічний опис: | Shevchenko D. Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition / D. Shevchenko; Scientific supervisor : V. Volchuk, Language consultant : N. Shashkina // Матеріали V науково-практичної конференції студентів, аспірантів і молодих вчених, (25−26 квітня 2024, Дніпро) : зб. тез. - Дніпро : ПДАБА, 2024. – С. 241-242 |
| Короткий огляд (реферат): | EN: Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition |
| URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): | http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/13522 |
| Розташовується у зібраннях: | Наукові статті |
Файли цього матеріалу:
| Файл | Опис | Розмір | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| Shevchenko.pdf | 137,18 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.