Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition

Please use this identifier to cite or link to this item: http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/13522

Title:	Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition
Authors:	Shevchenko, D. V. Volchuk (Scientific supervisor) N. Shashkina (Language consultant)
Keywords:	development of optimal technological parameters plasma coating deposition
Issue Date:	25-Apr-2024
Publisher:	Придніпровська державна академія будівництва та архітектури
Citation:	Shevchenko D. Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition / D. Shevchenko; Scientific supervisor : V. Volchuk, Language consultant : N. Shashkina // Матеріали V науково-практичної конференції студентів, аспірантів і молодих вчених, (25−26 квітня 2024, Дніпро) : зб. тез. - Дніпро : ПДАБА, 2024. – С. 241-242
Abstract:	EN: Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition
URI:	http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/13522
Appears in Collections:	Наукові статті

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
Shevchenko.pdf		137,18 kB	Adobe PDF	View/Open

DSpace JSPUI