Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition

Please use this identifier to cite or link to this item: http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/13522

Full metadata record

DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	Shevchenko, D.	-
dc.contributor.other	V. Volchuk (Scientific supervisor)	-
dc.contributor.other	N. Shashkina (Language consultant)	-
dc.date.accessioned	2024-08-23T09:32:40Z	-
dc.date.available	2024-08-23T09:32:40Z	-
dc.date.issued	2024-04-25	-
dc.identifier.citation	Shevchenko D. Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition / D. Shevchenko; Scientific supervisor : V. Volchuk, Language consultant : N. Shashkina // Матеріали V науково-практичної конференції студентів, аспірантів і молодих вчених, (25−26 квітня 2024, Дніпро) : зб. тез. - Дніпро : ПДАБА, 2024. – С. 241-242	-
dc.identifier.uri	http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/13522	-
dc.description.abstract	EN: Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition	uk_UA
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Придніпровська державна академія будівництва та архітектури	uk_UA
dc.subject	development of optimal technological parameters	uk_UA
dc.subject	plasma coating deposition	uk_UA
dc.title	Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
Appears in Collections:	Наукові статті

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
Shevchenko.pdf		137,18 kB	Adobe PDF	View/Open

DSpace JSPUI