DSpace JSPUI
DSpace зберігає і дозволяє легкий і відкритий доступ до всіх видів цифрового контенту, включаючи текст, зображення, анімовані зображення, MPEG і набори даних
Дізнатися більше
Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/15434Повний запис метаданих
| Поле DC | Значення | Мова |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Shevchenko, D. | - |
| dc.contributor.other | Volchuk, V. (scientific supervisor) | - |
| dc.contributor.other | Shashkina, N. (language consultant) | - |
| dc.date.accessioned | 2025-05-23T06:54:54Z | - |
| dc.date.available | 2025-05-23T06:54:54Z | - |
| dc.date.issued | 2024-04-04 | - |
| dc.identifier.citation | Shevchenko D. Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition / D. Shevchenko ; scientific supervisor V. Volchuk ; language consultant N. Shashkina // Наука і техніка: перспективи XXI ст.: матеріали II дист. наук.-практ. конференції студ. і молодих вчених, (Дніпро, 4 квітня 2024). – Дніпро: ПДАБА, 2024. – С. 84 | uk_UA |
| dc.identifier.uri | http://srd.pgasa.dp.ua:8080/xmlui/handle/123456789/15434 | - |
| dc.language.iso | en | uk_UA |
| dc.publisher | Придніпровська державна академія будівництва та архітектури | uk_UA |
| dc.subject | plasma coating | uk_UA |
| dc.title | Development of optimal technological parameters for plasma coating deposition | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |
| Розташовується у зібраннях: | Наукові статті | |
Файли цього матеріалу:
| Файл | Опис | Розмір | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| Shevchenko.pdf | 513,02 kB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.